- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/78 - Création des motifs d'un masque par imagerie par un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p.ex. création des motifs d'un masque par un faisceau d'électrons
Détention brevets de la classe G03F 1/78
Brevets de cette classe: 139
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
31 |
| D2s, Inc. | 150 |
23 |
| NuFlare Technology, Inc. | 770 |
13 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
8 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
6 |
| Hoya Corporation | 2822 |
5 |
| FUJIFILM Corporation | 27102 |
4 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
3 |
| SK Hynix Inc. | 11030 |
3 |
| Lam Research Corporation | 4775 |
3 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 8635 |
3 |
| Nippon Control System Corporation | 18 |
3 |
| Kioxia Corporation | 9847 |
3 |
| International Business Machines Corporation | 60644 |
2 |
| Intel Corporation | 45621 |
2 |
| Texas Instruments Incorporated | 19376 |
2 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
2 |
| GenISys GmbH | 5 |
2 |
| The University of Manchester | 456 |
2 |
| Agc, Inc. | 4029 |
2 |
| Autres propriétaires | 17 |